一種放射性同位素示蹤劑制備系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011469497.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112530622A 公開（公告）日 2021-03-19
申請公布號 CN112530622A 申請公布日 2021-03-19
分類號 G21H5/02;E21B47/11 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 李向輝;李燦然;陳海軍;鄧剛;孟闖;華成武;王曉慧;朱玉坤;李甜甜;李旭照;張奕;苑素華;黎振華;王宏正;李國旺 申請（專利權(quán)）人 河南省科學(xué)院同位素研究所有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京恒創(chuàng)益佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 付金豹
地址 450052 河南省鄭州市嵩山南路169號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種放射性同位素示蹤劑制備系統(tǒng)，包括碘蒸汽發(fā)生器、吸附塔、包覆器，碘蒸汽發(fā)生器、吸附塔、包覆器之間通過管路和氣閥實(shí)現(xiàn)氣密連接，碘蒸汽發(fā)生器的碘蒸汽出口連接至吸附塔，將碘蒸汽發(fā)生器產(chǎn)生的碘蒸汽向吸附塔輸送，在吸附塔中采用多孔吸附材料將碘蒸汽吸附，吸附塔的出料口連接至包覆器，用于將完成碘蒸汽吸附的多孔吸附材料送至包覆器，在包覆器中對多孔吸附材料進(jìn)行包覆。采用本發(fā)明的系統(tǒng)將少量放射性碘鹽溶液加入氧化劑，生成碘單質(zhì)，碘45℃升華，生成的高濕度碘蒸汽被抽吸至帶浸漬劑的高孔吸附劑，整個(gè)制備工藝耗時(shí)1～2小時(shí)，制備效率大幅度提升，大幅度降低了操作人員在放射性環(huán)境下曝露的時(shí)間。