電子轟擊離子源及其控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111389864.3 申請日 -
公開（公告）號 CN114156159A 公開（公告）日 2022-03-08
申請公布號 CN114156159A 申請公布日 2022-03-08
分類號 H01J49/14（2006.01）I;H01J49/02（2006.01）I;H01J49/06（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 楊天祥;段煉;馬喬;劉立鵬;韓雙來 申請（專利權(quán)）人 杭州譜育科技發(fā)展有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 311305浙江省杭州市臨安區(qū)青山湖街道科技大道2466-1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了電子轟擊離子源及其控制方法，所述電子轟擊離子源包括電子源和電離室；第一偏轉(zhuǎn)電極用于偏轉(zhuǎn)所述電離室內(nèi)的離子束，第一法拉第杯檢測器分別設(shè)置在所述電離室的軸心上側(cè)；第二偏轉(zhuǎn)電極用于所述電離室內(nèi)的偏轉(zhuǎn)離子束，第二法拉第杯檢測器分別設(shè)置在所述電離室的軸心下側(cè)；計算單元用于根據(jù)所述第一法拉第杯檢測器和第二法拉第杯檢測器的輸出得出離子束和所述軸心間的偏差；控制單元用于根據(jù)所述偏差去調(diào)整第一偏轉(zhuǎn)電極和/或第二偏轉(zhuǎn)電極，使得離子束沿著所述軸心傳輸。本發(fā)明具有離子傳輸效率高等優(yōu)點。