電感耦合等離子體離子源區(qū)域降氧裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111282219.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114203508A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114203508A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉勇勝;姜昕;夏曉峰;丁海波;劉文貴;藺潔;張程懿;盧水淼;陳力飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州譜育科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人 | 高莎 |
地址 | 430000湖北省武漢市洪山區(qū)魯磨路388號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種電感耦合等離子體離子源區(qū)域降氧裝置,包括炬管和充氣套;所述充氣套上端密封套設(shè)于所述炬管外,下端與所述炬管間隔設(shè)置,以形成充氣間隙,所述充氣套的外側(cè)壁設(shè)有連通所述充氣間隙的充氣孔,所述充氣套的下端外側(cè)面向外突設(shè)有環(huán)形導(dǎo)氣凸部,所述環(huán)形導(dǎo)氣凸部用以與設(shè)于所述炬管下方的采樣錐底座相對(duì)設(shè)置,且與所述采樣錐底座之間形成出氣間隙;其中,惰性氣體自所述充氣孔進(jìn)入所述充氣間隙,并經(jīng)過(guò)所述出氣間隙排出,以包覆在形成于所述炬管末端的離子源火焰外側(cè),有效降低了外部環(huán)境中的氧進(jìn)入離子源區(qū)域?qū)y(cè)試產(chǎn)生的干擾。 |
