一種具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810684093.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN108754418B 公開(kāi)（公告）日 2020-02-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN108754418B 申請(qǐng)公布日 2020-02-07
分類(lèi)號(hào) C23C14/02;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/24;B82Y40/00 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張剛;王增瑤 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 興瑞新材料科技（湖北）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長(zhǎng)春吉大專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 代理人 劉世純;王恩遠(yuǎn)
地址 130012 吉林省長(zhǎng)春市前進(jìn)大街2699號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜及其制備方法，屬于手性材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明涉及掩?？涛g方法、物理氣相沉積方法、膠體微球界面組裝方法以及微納結(jié)構(gòu)液相轉(zhuǎn)移方法。整個(gè)過(guò)程操作簡(jiǎn)便，過(guò)程低耗清潔，可控性高。通過(guò)結(jié)合膠體刻蝕與可控掠射角沉積技術(shù)，可以制備大面積具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜。其手性信號(hào)可以通過(guò)調(diào)整陣列的微結(jié)構(gòu)形貌進(jìn)行調(diào)控，其所提供的手性等離子體空腔對(duì)手性限域檢測(cè)有重要的應(yīng)用價(jià)值。該手性陣列結(jié)構(gòu)的成膜性可使其更容易從原有基底上脫離，從而形成自支持材料，進(jìn)一步通過(guò)后續(xù)的轉(zhuǎn)移操作，可制備出諸如柔性手性材料等更具實(shí)用性的材料。