快閃存儲(chǔ)器的編程方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010954474.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112201286B | 公開(公告)日 | 2021-06-18 |
申請公布號 | CN112201286B | 申請公布日 | 2021-06-18 |
分類號 | G11C11/34;G11C16/02 | 分類 | 信息存儲(chǔ); |
發(fā)明人 | 聶虹;陳精緯 | 申請(專利權(quán))人 | 中天弘宇集成電路有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 施婷婷 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)盛夏路61弄張潤大廈1號2層201、202室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種快閃存儲(chǔ)器的編程方法,包括:提供一具有浮柵的閃存結(jié)構(gòu),將閃存結(jié)構(gòu)的源極浮空;在漏極及襯底分別施加電壓,形成電場,產(chǎn)生電子空穴對,形成一次電子,其中,施加于襯底的電壓小于施加于漏極的電壓;在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi),空穴在電場作用下向下做加速度運(yùn)動(dòng)并撞擊閃存結(jié)構(gòu)中的襯底,產(chǎn)生二次電子;在柵極及襯底分別施加電壓,施加于襯底的電壓小于施加于柵極的電壓,使二次電子在垂直方向電場作用下形成三次電子注入浮柵中,完成編程操作。本發(fā)明通過編程電壓操作方式的改進(jìn)優(yōu)化,形成三次電子激發(fā)進(jìn)行編程,可以提高編程效率,降低功耗,編程讀取電流大,對隧穿氧化層損傷?。煌瑫r(shí)能避免本體貫通效應(yīng),為閃存進(jìn)一步微縮創(chuàng)造條件。 |
