B4快閃存儲(chǔ)器的編程方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011269500.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112382327B | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-07-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112382327B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-23 |
分類號(hào) | G11C16/04(2006.01)I;G11C16/10(2006.01)I | 分類 | 信息存儲(chǔ); |
發(fā)明人 | 聶虹;陳精緯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中天弘宇集成電路有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 施婷婷 |
地址 | 201203上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)盛夏路61弄張潤(rùn)大廈1號(hào)2層201、202室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種B4快閃存儲(chǔ)器的編程方法,包括:將P型溝道閃存器件的源極浮空;在P型溝道閃存器件的柵極、漏極及襯底分別施加電壓,空穴注入襯底,電子聚集在漏極形成一次電子;在漏極和襯底分別施加電壓,漏極和襯底之間形成電場(chǎng),空穴在電場(chǎng)作用下向下做加速度運(yùn)動(dòng)并撞擊P型溝道閃存器件中的襯底,產(chǎn)生二次電子;在P型溝道閃存器件的柵極及襯底分別施加電壓,使二次電子在垂直方向電場(chǎng)作用下形成三次電子并與一次電子疊加注入浮柵中,完成編程操作。本發(fā)明通過(guò)編程電壓操作方式的改進(jìn)優(yōu)化,形成三次電子激發(fā)及帶間隧穿兩種方式的累加進(jìn)行編程,可以有效提高編程效率;同時(shí)能避免本體貫通效應(yīng),為閃存進(jìn)一步微縮創(chuàng)造條件。 |
