用于包含銀納米線的透明導(dǎo)電層的蝕刻組合物
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710048802.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107557786A | 公開(公告)日 | 2018-01-09 |
申請公布號 | CN107557786A | 申請公布日 | 2018-01-09 |
分類號 | C23F1/14(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王海量 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波科廷光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海申新律師事務(wù)所 | 代理人 | 俞滌炯 |
地址 | 315000 浙江省寧波市高新區(qū)凌云路1177號003幢3號1層1區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種包含銀納米線的透明導(dǎo)電層。本發(fā)明還涉及一種適用于蝕刻包括銀納米線的透明導(dǎo)電層以形成圖案的蝕刻組合物。本發(fā)明還涉及通過蝕刻包含銀納米線的透明導(dǎo)電薄膜制造的透明導(dǎo)電電極。所述蝕刻組合物可包括氧化劑和配體。所述氧化劑可為能夠與銀金屬反應(yīng)以形成銀化合物的第一化合物;并且所述配體可為能夠與銀化合物反應(yīng)以形成銀離子的水溶性配位絡(luò)合物的第二化合物。 |
