一種分配閥、衛(wèi)生清洗裝置及其控制方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110284719.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113217663A | 公開(公告)日 | 2021-08-06 |
申請公布號 | CN113217663A | 申請公布日 | 2021-08-06 |
分類號 | F16K11/074(2006.01)I;F16K3/08(2006.01)I;F16K3/314(2006.01)I;E03D9/08(2006.01)I | 分類 | 工程元件或部件;為產(chǎn)生和保持機器或設(shè)備的有效運行的一般措施;一般絕熱; |
發(fā)明人 | 李長征;應(yīng)衛(wèi)敏;陳權(quán);方葉挺 | 申請(專利權(quán))人 | 青島衛(wèi)璽智能科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 武漢聚信匯智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 馬尚偉 |
地址 | 266103山東省青島市嶗山區(qū)海爾路一號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及衛(wèi)浴設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種具有排冷水結(jié)構(gòu)的分配閥、衛(wèi)生清洗裝置及其控制方法。分配閥包括同軸設(shè)置的動盤和定盤,動盤上設(shè)置有用于進水的貫通孔,動盤靠近定盤的一面設(shè)置有位于貫通孔兩側(cè)的第一凹槽和第二凹槽,定盤靠近動盤的一面設(shè)置有第一洗凈流路、第二洗凈流路和自清潔流路,動盤上還設(shè)置有第一洗凈通孔和第二洗凈通孔和自清潔通孔;第一凹槽用于連通貫通孔和第一洗凈通孔,第二凹槽用于連通貫通孔和第二洗凈通孔;第一洗凈通孔、第二洗凈通孔和自清潔通孔分別用于連接第一噴嘴、第二噴嘴和自清潔噴嘴。本發(fā)明可以在清洗之前排盡洗凈流路上的殘余水,提高用戶舒適感。 |
