一種帶深腔的晶圓級(jí)紅外光學(xué)窗口

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111681262.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114373738A 公開(kāi)（公告）日 2022-04-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN114373738A 申請(qǐng)公布日 2022-04-19
分類號(hào) H01L23/544（2006.01）I;H01L21/68（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 樊利花;侯樹軍;林達(dá)世 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州厚樸傳感科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州國(guó)卓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王麗敏
地址 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)婁陽(yáng)路6號(hào)中新科技工業(yè)坊三期2-1-B、2-2-B
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種帶深腔的晶圓級(jí)紅外光學(xué)窗口，涉及到紅外光學(xué)窗口領(lǐng)域，包括晶圓，所述晶圓的表面制作有帶深腔的晶圓級(jí)紅外窗口單元，所述晶圓的外圍有用激光打穿的4個(gè)十字對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。本發(fā)明所有光刻圖案均在平面上制作，避免在已經(jīng)制備好深腔晶圓的上進(jìn)行光刻造成的光刻膠旋涂不均，去膠困難問(wèn)題，本發(fā)明全流程使用光刻方法進(jìn)行圖形制作，避免使用機(jī)械掩膜在深槽內(nèi)制作圖形造成的圖形邊緣衍出問(wèn)題，且可以實(shí)現(xiàn)帶深腔紅外晶圓級(jí)封裝窗口小型化需求，單個(gè)光窗的尺寸最小可達(dá)到微米級(jí)，光窗單元尺寸范圍可設(shè)置在500um?5mm，一般機(jī)械掩膜鍍膜很難完成此規(guī)格下小尺寸的光窗制備。