化合物氟硼磷酸銣和氟硼磷酸銣非線性光學(xué)晶體及制備方法和用途
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210336676.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114672880A | 公開(公告)日 | 2022-06-28 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114672880A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-28 |
分類號(hào) | C30B29/12(2006.01)I;G02F1/355(2006.01)I;C01B25/455(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 潘世烈;李子健;程丙良;張方方 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中國(guó)科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所 |
代理機(jī)構(gòu) | 烏魯木齊中科新興專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 830011新疆維吾爾自治區(qū)烏魯木齊市北京南路40號(hào)附1號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種氟硼磷酸銣化合物和氟硼磷酸銣非線性光學(xué)晶體及制備方法和用途,該化合物的分子式為Rb3B11PO19F3,分子量為767.29,采用真空封裝法制備;該晶體的分子式為Rb3B11PO19F3,分子量分別為767.29,該晶體屬三方晶系,空間群R3,其晶胞參數(shù)為a=b=11.3715(1)?,c=12.0240(3)?,α=β=90°,γ=120°,Z=3,V=1346.53(4)?3,采用密封熔鹽法或坩堝下降法制備。通過該方法獲得尺寸為厘米級(jí)的Rb3B11PO19F3非線性光學(xué)晶體,可作為紫外、深紫外非線性光學(xué)晶體在全固態(tài)激光器中獲得應(yīng)用。 |
