一種高壓加熱爐和工藝設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122983652.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN216694457U 公開(kāi)（公告）日 2022-06-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN216694457U 申請(qǐng)公布日 2022-06-07
分類號(hào) F27B17/00（2006.01）I;F27D11/02（2006.01）I;F27D9/00（2006.01）I;F27D7/06（2006.01）I 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 黃占超 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安泊智匯半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 上海恒銳佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 201114上海市閔行區(qū)新駿環(huán)路189號(hào)1幢4層C402室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種高壓加熱爐和工藝設(shè)備，高壓加熱爐包括：管式的金屬腔體，金屬腔體中具有空腔，空腔的開(kāi)口朝向所述金屬腔體的底部；加熱罩，所述加熱罩圍繞所述金屬腔體的外腔壁設(shè)置；門組件，所述門組件包括：位于所述金屬腔體底部的支架底托；位于所述支架底托上且與所述支架底托固定連接的晶舟，所述晶舟適于伸入所述空腔中。腔體采用金屬材質(zhì)，高壓加熱爐可用于真空至高壓工藝條件，高壓加熱爐的適用范圍廣；高壓加熱爐的開(kāi)口朝向金屬腔體的底部，且加熱罩圍繞所述金屬腔體的外腔壁設(shè)置，不占用金屬腔體的空間也不需要金屬腔體作為支撐，高壓加熱爐立式放置，增大了空間利用率，在相同的占地面積下，高壓加熱爐的產(chǎn)能得到了提升。