一種靜態(tài)生長單晶金剛石的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110322264.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113249787A | 公開(公告)日 | 2021-08-13 |
申請公布號 | CN113249787A | 申請公布日 | 2021-08-13 |
分類號 | C30B29/04;C30B25/00 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 呂繼磊 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北碳六科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 宜昌市慧宜專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 彭婭 |
地址 | 443208 湖北省宜昌市五峰民族工業(yè)園(枝江市白洋鎮(zhèn)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及金剛石基底制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種靜態(tài)生長單晶金剛石的制備方法,將籽晶放置入腔體中,在腔體首先通入氫氣充滿腔體,產(chǎn)生等離子體;通入含碳?xì)庠催M(jìn)行金剛石的生長,金剛石生長過程中間斷的通入含碳?xì)庠醋鳛檠a(bǔ)充,保證腔體維持一定的壓力,籽晶生長,完成制備。本發(fā)明采用氫氣整體充滿腔體,即氫氣作為金剛石反應(yīng)的催化劑,在腔體內(nèi)是一定的,甲烷是補(bǔ)充的,甲烷的利用率達(dá)到100%。節(jié)約成本,合成質(zhì)量大大提高,以往動態(tài)過程中會混入氣體雜質(zhì),導(dǎo)致純度不夠,現(xiàn)在可以完全避免氣體雜質(zhì)的引入。 |
