一種磁控濺射雙面卷繞真空鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201822241966.0 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN209292468U 公開(公告)日 2019-08-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN209292468U 申請(qǐng)公布日 2019-08-23
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/56 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 譚勇 申請(qǐng)(專利權(quán))人 廣東鑫豐海電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 湯東鳳
地址 523106 廣東省東莞市東城街道牛山社區(qū)牛山工業(yè)園偉恒路5號(hào)A棟一樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型適用于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種磁控濺射雙面卷繞真空鍍膜裝置,包括盤形倉(cāng)和鍍膜筒,盤形倉(cāng)具體為兩個(gè),兩個(gè)盤形倉(cāng)分別安裝在鍍膜筒的兩端,鍍膜筒的端部位于盤形倉(cāng)的上部且與盤形倉(cāng)的內(nèi)部相連通,兩個(gè)盤形倉(cāng)內(nèi)分別設(shè)有第一收開卷盤和第二收開卷盤,第一收開卷盤和第二收開卷盤上均安裝有驅(qū)動(dòng)軸,驅(qū)動(dòng)軸位于盤形倉(cāng)外部的一端安裝有驅(qū)動(dòng)電機(jī),鍍膜筒前側(cè)的上部鉸接有密封門,鍍膜筒內(nèi)部中心一側(cè)的上表面安設(shè)有上鍍膜頭,鍍膜筒內(nèi)部中心遠(yuǎn)離鍍膜頭一側(cè)的下表面固定安設(shè)有下鍍膜頭。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作使用方便,在使用過程中抽真空較為方便快捷,有利于進(jìn)行推廣使用。