一種光刻膠模型的建立方法及電子設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011255892.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112364508A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-02-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112364508A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號(hào) | G06F30/20(2020.01)I; | 分類 | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 高世嘉;邵相軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 羅芬梅 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福田保稅區(qū)英達(dá)利科技數(shù)碼園C座301F室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠模型的建立方法及電子設(shè)備，S1、提供掩模設(shè)計(jì)版圖及電鏡掃描圖像，掩模設(shè)計(jì)版圖包括至少一掩模圖像，電鏡掃描圖像包括至少一掃描圖案，將至少一掃描圖案與至少一掩模圖像對(duì)準(zhǔn)以獲得至少一對(duì)準(zhǔn)掃描圖案；S2、識(shí)別所述至少一對(duì)準(zhǔn)掃描圖案的外邊界或者內(nèi)邊界；S3、至少提取至少一對(duì)準(zhǔn)掃描圖案的外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息以形成數(shù)據(jù)集；及S4、基于數(shù)據(jù)集建立光刻膠模型。提取外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息以形成數(shù)據(jù)集，其數(shù)據(jù)是較容易獲得以及數(shù)量是相對(duì)較多的，使得形成的數(shù)據(jù)集更好的用于模型的建立，同時(shí)，外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息是單點(diǎn)數(shù)據(jù)，是絕對(duì)位置信息，能更加精確的建立光刻膠模型。?? |
