全芯片掩模圖案生成的方法、裝置及計算機可讀介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810155893.5 申請日 -
公開（公告）號 CN108490735A 公開（公告）日 2018-09-04
申請公布號 CN108490735A 申請公布日 2018-09-04
分類號 G03F1/76 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 李江偉;丁明 申請（專利權）人 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司
代理機構(gòu) 深圳市智享知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 深圳晶源信息技術有限公司;東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司
地址 518000 廣東省深圳市福田區(qū)福保街道紅棉道英達利科技數(shù)碼園C座301F
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種全芯片掩模圖案生成的方法，包括：通過處理器從多邊形目標圖案生成初始掩模圖像；通過所述處理器對所述初始掩模圖像執(zhí)行基于全芯片的全局圖像優(yōu)化以生成新的掩模圖案多邊形，其中所述基于全芯片的全局圖像優(yōu)化為協(xié)同優(yōu)化主要特征多邊形和輔助特征圖像像素；基于全芯片的全局圖像優(yōu)化確定性能指標信息，其中性能指標信息包括用于輔助全局多邊形優(yōu)化的數(shù)據(jù)；通過使用所述性能指標信息對所述新的掩模圖案多邊形進行全局多邊形優(yōu)化來生成掩模；及所述掩?；诰植慷噙呅蝺?yōu)化生成優(yōu)化的掩模圖案。本發(fā)明還提供了全芯片掩模圖案生成的裝置及計算機可讀介質(zhì)。全芯片掩模圖案生成的方法、裝置及計算機可讀介質(zhì)具有優(yōu)化速度快等優(yōu)點。