一種光源、偏振及掩模聯(lián)合優(yōu)化方法及電子設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010928268.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111965935A 公開（公告）日 2020-11-20
申請公布號 CN111965935A 申請公布日 2020-11-20
分類號 G03F1/36;G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 丁明;施偉杰 申請（專利權(quán)）人 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司
代理機構(gòu) 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道軟件園二期12棟401C室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及集成電路光刻技術(shù)領域，尤其涉及一種光源、偏振及掩模聯(lián)合優(yōu)化方法及電子設備。一種光源、偏振及掩模聯(lián)合優(yōu)化方法包括如下步驟：S1、輸入掩模的設計版圖；S2、在所述掩模的設計版圖上設置多個誤差監(jiān)測點；S3、設定優(yōu)化變量為x，所述優(yōu)化變量x包括光源強度變量、偏振角度變量以及掩模變量；S4、基于Hopkins?Abbe混合光刻成像模型關(guān)聯(lián)誤差監(jiān)測點獲得關(guān)于優(yōu)化變量x的目標函數(shù)cost；及S5、優(yōu)化目標函數(shù)cost直至其收斂，以獲得優(yōu)化后的掩模、光源及偏振，基于Hopkins?Abbe混合光刻成像模型對光源強度變量、偏振角度變量以及掩模變量進行優(yōu)化，使得能獲得較好的工藝制造窗口。