水平式晶圓電化學(xué)沉積設(shè)備電化學(xué)液循環(huán)系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121150001.6 申請日 -
公開（公告）號 CN215887272U 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN215887272U 申請公布日 2022-02-22
分類號 C25D17/00（2006.01）I;C25D21/10（2006.01）I;C25D5/08（2006.01）I;C25D7/12（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 李程;孫永勝;祁志明;李松松 申請（專利權(quán)）人 無錫吉智芯半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 214000江蘇省無錫市錫山區(qū)錫北鎮(zhèn)優(yōu)谷產(chǎn)業(yè)園75號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型是水平式晶圓電化學(xué)沉積設(shè)備電化學(xué)液循環(huán)系統(tǒng)，其結(jié)構(gòu)是副槽位于機架內(nèi)一側(cè)，溢流槽位于機架內(nèi)另一側(cè)上方且與副槽相通，溢流槽和副槽上方罩設(shè)有頂板，電化學(xué)沉積槽位于溢流槽內(nèi)且頂部穿過頂板，電化學(xué)沉積槽側(cè)壁設(shè)有與溢流槽相通的溢流口，電化學(xué)沉積槽底部中心設(shè)穿過溢流槽底部的進液排液口，進液排液口通過帶有循環(huán)泵的循環(huán)管道連接副槽。本實用新型的優(yōu)點：結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，電化學(xué)液體由副槽經(jīng)過循環(huán)泵從循環(huán)管道由進液排液口泵入電化學(xué)沉積槽內(nèi)并通電，對產(chǎn)品進行有效充分電化學(xué)沉積，處理時電化學(xué)液體可從溢流口溢流到溢流槽內(nèi)，流回副槽。配合水平式晶圓電化學(xué)沉積設(shè)備，可實現(xiàn)電化學(xué)液的有效循環(huán)輸送，改善了處理效果。