反射式位移測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110349859.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112902854A 公開（公告）日 2021-06-04
申請公布號 CN112902854A 申請公布日 2021-06-04
分類號 G01B11/02 分類 測量；測試;
發(fā)明人 茍敬德;王洋;楊尚;趙爾瑞;李德勝 申請（專利權(quán)）人 長春禹衡光學(xué)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長春中科長光知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 高一明;郭婷
地址 130000 吉林省長春市高新開發(fā)區(qū)飛躍東路333號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種反射式位移測量裝置，包括：投影系統(tǒng)、指示光柵、反射標(biāo)尺光柵和接收系統(tǒng)，投影系統(tǒng)發(fā)出的平行光入射到指示光柵，并經(jīng)過指示光柵入射到反射標(biāo)尺光柵的表面，再反射回指示光柵產(chǎn)生莫爾條紋投影到接收系統(tǒng)轉(zhuǎn)換為電信號；指示光柵包括玻璃基材，在玻璃基材鍍有吸光膜，在吸光膜上刻蝕有由振幅光柵和相位光柵組成的只擁有±1級衍射條紋的復(fù)振幅光柵。本發(fā)明提供的反射式位移測量裝置能夠在提高能使用率、降低光柵的制造難度的條件下獲得理想的光強(qiáng)分布。