集成電路及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710323449.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108878471B | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
申請公布號 | CN108878471B | 申請公布日 | 2021-10-01 |
分類號 | H01L27/22(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉少鵬;陸宇 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江??蛋苍喘h(huán)保科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 韓建偉;謝湘寧 |
地址 | 311121 浙江省杭州市余杭區(qū)文一西路1500號1幢311 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種集成電路及其制備方法。該集成電路包括順序?qū)盈B設(shè)置的半導(dǎo)體襯底、邏輯器件、下金屬互連層、中間介質(zhì)層和上金屬互連層,中間介質(zhì)層中設(shè)置有MRAM和第一導(dǎo)體,下金屬互連層和上金屬互連層通過第一導(dǎo)體電連接,MRAM包括依次疊置在中間介質(zhì)層中的第二導(dǎo)體、下電極、存儲單元、上電極和第三導(dǎo)體,且下電極通過第二導(dǎo)體與下金屬互連層電連接,第三導(dǎo)體和上金屬互連層電連接。由于上述MRAM中的下電極通過第二導(dǎo)體與下金屬互連層連接,不僅能夠減小孔的電阻,還能夠?qū)ο码姌O進(jìn)行不同材料和工藝上的選擇進(jìn)行調(diào)整,從而使MRAM能夠具有優(yōu)異的存儲性能,進(jìn)而使集成有MRAM與邏輯器件的集成電路能夠具有優(yōu)異的性能。 |
