一種蒸鍍用加熱裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921257970.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211720759U | 公開(公告)日 | 2020-10-20 |
申請公布號 | CN211720759U | 申請公布日 | 2020-10-20 |
分類號 | H05B3/20(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
發(fā)明人 | 何軍舫 | 申請(專利權(quán))人 | 博宇(朝陽)半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 北京博宇半導(dǎo)體工藝器皿技術(shù)有限公司;博宇(朝陽)半導(dǎo)體科技有限公司;博宇(天津)半導(dǎo)體材料有限公司 |
地址 | 101101北京市通州區(qū)工業(yè)開發(fā)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種蒸鍍用加熱裝置,包括基板,以及設(shè)置于基板表面的導(dǎo)電層,其特征在于,基板具有相對的第一表面和第二表面;導(dǎo)電層包括第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層;第一導(dǎo)電層設(shè)置于基板的第一表面;第二導(dǎo)電層設(shè)置于基板的第二表面;第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層上設(shè)置有加熱區(qū)和隔離區(qū);第一導(dǎo)電層上的加熱區(qū)與第二導(dǎo)電層上的隔離區(qū)相對應(yīng)。采用這種蒸鍍用加熱裝置,能夠保證加熱面溫度的均勻性。?? |
