一種模擬深水環(huán)境的激光熔覆原位觀測(cè)系統(tǒng)及其使用方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111492518.8 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN114107980A 公開(公告)日 2022-03-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN114107980A 申請(qǐng)公布日 2022-03-01
分類號(hào) C23C24/10(2006.01)I;H04N5/232(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 郭寧;張帥;成奇;付云龍;張欣 申請(qǐng)(專利權(quán))人 哈工大(威海)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 威海恒譽(yù)潤(rùn)達(dá)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 郭瑩
地址 264209山東省威海市文化西路2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種模擬深水環(huán)境的激光熔覆原位觀測(cè)系統(tǒng)及其使用方法,用于模擬深水局部干室激光熔覆,其包括模擬深水高壓環(huán)境組件,模擬深水高壓環(huán)境組件設(shè)有高壓艙艙體,高壓艙艙體內(nèi)部設(shè)有水箱,水箱內(nèi)部設(shè)有熔覆組件,高壓艙艙體外部設(shè)有熔滴拍攝組件和控制系統(tǒng),控制系統(tǒng)控制熔覆組件和熔滴拍攝組件運(yùn)行,其解決了現(xiàn)有的淺水模擬裝置無法用于研究深水高壓環(huán)境中的激光熔覆工藝及過程,現(xiàn)有的深水模擬裝置存在著因無法填絲、無法調(diào)整離焦量、無法原位觀測(cè),從而導(dǎo)致焊接穩(wěn)定性差、焊接質(zhì)量差、焊接缺陷多的技術(shù)問題,可廣泛應(yīng)用于局部干法焊接領(lǐng)域。