一種用于芯片加工的低溫氧化裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202121379363.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN215266250U 公開(kāi)（公告）日 2021-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN215266250U 申請(qǐng)公布日 2021-12-21
分類號(hào) H01L21/687（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李璇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州鼎芯光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞市神州眾達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉漢民
地址 212511江蘇省蘇州市吳江區(qū)黎里鎮(zhèn)來(lái)秀路新黎路113號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于芯片加工的低溫氧化裝置，包括底座，所述底座的頂端固定安裝有等離子體腔，所述等離子體腔的左端固定安裝有一端貫穿并延伸至等離子體腔內(nèi)部的氣體管道，所述氣體管道的頂端相連通有位于等離子體腔外側(cè)的氣體流量器，所述氣體管道的右端相連通有位于等離子體腔內(nèi)部的汽體均分器，所述等離子體腔的內(nèi)腔底端固定安裝有數(shù)量為四個(gè)的支撐桿，四個(gè)所述支撐桿的頂端均與安裝框相固定連接，安裝框的頂端呈開(kāi)口設(shè)置，所述等離子體腔的右端固定安裝有真空泵，所述真空泵的輸出端貫穿并延伸至等離子體腔的內(nèi)部，所述安裝框的內(nèi)腔前側(cè)壁固定安裝有電動(dòng)推桿。該用于芯片加工的低溫氧化裝置，具備氧化均勻的優(yōu)點(diǎn)。