“高分辨率”電阻抗成像的設(shè)備和方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201580012232.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN106456040B | 公開(公告)日 | 2019-10-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106456040B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-10-11 |
分類號(hào) | A61B5/053 | 分類 | 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué);衛(wèi)生學(xué); |
發(fā)明人 | 王偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 寧波威聯(lián)生物科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 寧波威聯(lián)生物科技有限公司 |
地址 | 315800 浙江省寧波市北侖區(qū)梅山大道商務(wù)中心三十一號(hào)辦公樓201室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種高分辨率電阻抗成像的方法,包括:在第一位置使用由電極框架(30)限定的采樣點(diǎn)(22)的陣列,其中,電極框架限定了采樣點(diǎn)的相對(duì)位移;以及在不同的第二位置使用由相同的電極框架限定的采樣點(diǎn)的不同的陣列。 |
