筆跡繪制方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010197846.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111427499B 公開(kāi)（公告）日 2021-10-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN111427499B 申請(qǐng)公布日 2021-10-19
分類(lèi)號(hào) G06F3/0488（2013.01）I;G06F3/0487（2013.01）I 分類(lèi) 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 蔡澤明 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 廣州視源電子科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京澤方譽(yù)航專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳照輝
地址 510530廣東省廣州市黃埔區(qū)云埔四路6號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種筆跡繪制方法、裝置、終端設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括：獲取書(shū)寫(xiě)過(guò)程中的連續(xù)四個(gè)采樣點(diǎn)；對(duì)相鄰的兩個(gè)采樣點(diǎn)構(gòu)造初始四邊形；基于所述連續(xù)四個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的三個(gè)初始四邊形的對(duì)邊中點(diǎn)確認(rèn)兩組衍生點(diǎn)；根據(jù)所述兩組衍生點(diǎn)確認(rèn)兩條二階貝塞爾曲線；將所述兩條二階貝塞爾曲線及其端點(diǎn)確認(rèn)的封閉區(qū)域繪制為所述連續(xù)四個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的筆跡單元。通過(guò)對(duì)連續(xù)四個(gè)采樣點(diǎn)進(jìn)行幾何關(guān)系處理，得到中間兩個(gè)采樣點(diǎn)對(duì)應(yīng)的筆跡單元，基于筆跡單元的處理方式繪制得到連續(xù)圓滑的書(shū)寫(xiě)筆跡。