基于磁場(chǎng)調(diào)控的熱電化學(xué)氧化裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210111196.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114540904A 公開(kāi)（公告）日 2022-05-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN114540904A 申請(qǐng)公布日 2022-05-27
分類(lèi)號(hào) C25D11/02（2006.01）I;C25D17/00（2006.01）I 分類(lèi) 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 李昊旻;于飛;王連可;雷厲 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 西比里電機(jī)技術(shù)（蘇州）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 215332江蘇省蘇州市昆山市花橋鎮(zhèn)金星路18號(hào)A2幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 基于磁場(chǎng)調(diào)控的熱電化學(xué)氧化裝置，包括鍍池，鍍池內(nèi)具有電解液，待處理工件位于電解液中，待處理工件和電解液分別與熱電化學(xué)氧化電源相連，其特征在于，鍍池旁還具有產(chǎn)生磁場(chǎng)的部件。本發(fā)明的基于磁場(chǎng)調(diào)控的熱電化學(xué)氧化裝置，通過(guò)外置磁場(chǎng)調(diào)控?zé)犭娀瘜W(xué)氧化過(guò)程中等離子體的運(yùn)動(dòng)，減少熱電化學(xué)氧化過(guò)程中等離子體的集聚，降低等離子體的劇烈程度，避免不均勻燒蝕。