真空感應(yīng)化學(xué)氣相沉積/滲透系統(tǒng)分布式控制裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200710010132.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN101003896A 公開（公告）日 2007-07-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN101003896A 申請(qǐng)公布日 2007-07-25
分類號(hào) C23C16/52(2006.01) 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王慶;巴德純;王冬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 錦州市三特真空冶金技術(shù)工業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽東大專利代理有限公司 代理人 錦州市三特真空冶金技術(shù)工業(yè)有限公司;東北大學(xué)
地址 121003遼寧省錦州市太和區(qū)錦義街66號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種真空感應(yīng)化學(xué)氣相沉積/滲透系統(tǒng)分布式控制裝置屬于自動(dòng)控制領(lǐng)域。本發(fā)明裝置包括上位機(jī)、協(xié)議轉(zhuǎn)換器、溫度控制器、DA轉(zhuǎn)換模塊、真空計(jì)、質(zhì)量流量控制器和可編程控制器，當(dāng)可編程控制器的個(gè)數(shù)大于1時(shí)還包括適配器。上位機(jī)分別與可編程控制器、協(xié)議轉(zhuǎn)換器相連，當(dāng)可編程控制器的個(gè)數(shù)大于1時(shí)通過適配器與上位機(jī)相連，協(xié)議轉(zhuǎn)換器分別與溫度控制器、DA轉(zhuǎn)換器相連，DA轉(zhuǎn)換器與真空計(jì)、質(zhì)量流量控制器相連。上位機(jī)嵌入了系統(tǒng)登錄模塊、控制系統(tǒng)界面模塊、串口通信模塊、溫度控制模塊、流量控制模塊、真空度采集模塊和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊。本發(fā)明通訊、數(shù)據(jù)處理能力強(qiáng)；控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)易于調(diào)整、升級(jí)，抗干擾能力強(qiáng)；通用性強(qiáng)。