化學(xué)氣相共沉積與滲透先驅(qū)體自動供給裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200420073084.3 申請日 -
公開（公告）號 CN2716285Y 公開（公告）日 2005-08-10
申請公布號 CN2716285Y 申請公布日 2005-08-10
分類號 C23C16/448 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邱海鵬;韓立軍;王冬;商凱東 申請（專利權(quán)）人 錦州市三特真空冶金技術(shù)工業(yè)有限公司
代理機構(gòu) 中國航空專利中心 代理人 中國航空工業(yè)第一集團公司北京航空制造工程研究所;錦州市三特真空冶金技術(shù)工業(yè)有限公司
地址 100024北京市朝陽區(qū)八里橋
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于復(fù)合材料技術(shù)，涉及對化學(xué)氣相共沉積與滲透裝置使用的先驅(qū)體自動供給裝置的改進。它包括碳先驅(qū)體供給部分、惰性氣體供給部分、陶瓷先驅(qū)體自動供給部分和可編程序控制器4，其特征在于，有一個總先驅(qū)體混合罐15，它的內(nèi)腔通過管路分別與陶瓷先驅(qū)體混合罐13和碳先驅(qū)體混合罐14的內(nèi)腔連通，并且通過管路16與化學(xué)氣相共沉積與滲透裝置連接。本實用新型可以同時進行碳和陶瓷的沉積與滲透。