一種硅片的刻蝕裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121293552.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214672537U 公開（公告）日 2021-11-09
申請公布號 CN214672537U 申請公布日 2021-11-09
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 龔雪玲;陳宇 申請（專利權）人 揚州晶新微電子有限公司
代理機構 南京源點知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 潘云峰
地址 225000江蘇省揚州市鴻大路29號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種硅片的刻蝕裝置，包括：片架、驅(qū)動組件、容器、加熱件，驅(qū)動組件與片架連接并用于驅(qū)動片架沿豎向往復運動，容器開設有腐蝕槽，腐蝕槽位于片架的正下方，加熱件位于容器的一側或設置于容器中，加熱件用于對加入腐蝕槽中的腐蝕液進行加熱。通過驅(qū)動機構驅(qū)動片架帶動硅片在腐蝕液中做往復運動，從而提高腐蝕液相對于硅片的流動速度，從而提高腐蝕液的腐蝕效果。