一種光學(xué)薄膜材料及其制備方法、偏光片

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110203205.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112812347A 公開（公告）日 2021-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN112812347A 申請(qǐng)公布日 2021-05-18
分類號(hào) C08J5/18;C08L33/12;C08L69/00;G02B5/30 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 高西萍;劉秋明;胡樹;程士心;孫立民;蔡緒福;張利利 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 聚綸材料科技（深圳）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市蘭鋒盛世知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 羅炳鋒
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)南頭街道南海大道3025號(hào)創(chuàng)意大廈13-14樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明適用于材料技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種光學(xué)薄膜材料及其制備方法、偏光片，該光學(xué)薄膜材料的制備方法以聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）為基料，通過引入具有耐高溫性能和高韌性的聚碳酸酯（PC），可以很好地改善薄膜材料的耐高溫性能和韌性；并且還引入了可在材料體系中很好分散并與體系中的物料很好相容的查爾酮類官能團(tuán)類聚甲基丙烯酸甲酯樹脂（雙折射率調(diào)節(jié)劑），并采用雙螺桿擠出機(jī)和單螺桿擠出機(jī)擠出成膜設(shè)備配合使用，既可保證PC與PMMA很好地相容，又可使得共混后制得的光學(xué)薄膜材料不僅具有良好的耐高溫性能，而且還具有相位差調(diào)節(jié)功能，很好地改善了傳統(tǒng)的PMMA單一負(fù)性雙折射率的問題，可滿足目前市場(chǎng)對(duì)光學(xué)薄膜的多樣化需求。