一種磁控濺射鍍膜磁性靶材

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023303473.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214782106U 公開（公告）日 2021-11-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN214782106U 申請(qǐng)公布日 2021-11-19
分類號(hào) C23C14/35（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周其剛;李憲民;戴慧敏 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京歐美達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董建林
地址 211100江蘇省南京市江寧經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)鋪崗街379號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種磁控濺射鍍膜磁性靶材，其特征在于所述磁性靶材是通過若干塊同材質(zhì)的磁性材料拼接而成，其拼接線的形狀與磁場(chǎng)布局的形狀一致。本實(shí)用新型所述靶材設(shè)計(jì)為多塊靶材拼接而成，且拼接線按磁場(chǎng)布局設(shè)計(jì)，使磁力線可以沿拼接線輕松穿透，能夠吸引離子轟擊靶材表面，使磁性材料也能應(yīng)用于各種磁控濺射鍍膜中，豐富了靶材的多樣性，便于生產(chǎn)更多樣的鍍膜材料。