一種利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍制備超硬仿生AR片的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110826699.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113529019A 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN113529019A 申請公布日 2021-10-22
分類號 C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐仕立 申請（專利權）人 東莞市晶博光電股份有限公司
代理機構 東莞科強知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 李英華
地址 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)四村正龍橫街2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及AR技術領域，具體涉及一種利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍制備超硬仿生AR片的方法，它包括以下步驟：步驟1、對基片進行清洗干燥；步驟2、采用多弧離子鍍，利用弧光放電時快速蒸發(fā)硅靶形成液滴，液滴在電場作用下沉積在基片表面，形成0.5?3微米厚的硅納米乳突；步驟3、磁控濺射鍍硅光學膜，該光學膜的厚度300納米以內，得到超硬仿生AR片，本發(fā)明利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍相結合的方式，可以實現(xiàn)該種結構的仿生消反效果，同時可以實現(xiàn)大批量生產，并且成本低廉，還可以實現(xiàn)3D造型。