一種利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍制備超硬仿生AR片的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110826699.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113529019A 公開（公告）日 2021-10-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN113529019A 申請(qǐng)公布日 2021-10-22
分類號(hào) C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐仕立 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 東莞市晶博光電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞科強(qiáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李英華
地址 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)四村正龍橫街2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及AR技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍制備超硬仿生AR片的方法，它包括以下步驟：步驟1、對(duì)基片進(jìn)行清洗干燥；步驟2、采用多弧離子鍍，利用弧光放電時(shí)快速蒸發(fā)硅靶形成液滴，液滴在電場(chǎng)作用下沉積在基片表面，形成0.5?3微米厚的硅納米乳突；步驟3、磁控濺射鍍硅光學(xué)膜，該光學(xué)膜的厚度300納米以內(nèi)，得到超硬仿生AR片，本發(fā)明利用多弧離子鍍和磁控濺射鍍相結(jié)合的方式，可以實(shí)現(xiàn)該種結(jié)構(gòu)的仿生消反效果，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)，并且成本低廉，還可以實(shí)現(xiàn)3D造型。