一種ALD反應(yīng)器
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022898949.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN214458308U | 公開（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214458308U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-22 |
| 分類號(hào) | C23C16/455;C23C16/52;B82Y30/00;B82Y40/00 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 萬軍;廖海濤;王斌;王輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無錫市邑晶半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉杰 |
| 地址 | 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)觀山路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種ALD反應(yīng)器。該反應(yīng)器包括真空腔室以及反應(yīng)腔室，反應(yīng)腔室內(nèi)置于真空腔室內(nèi)，反應(yīng)腔室頂部敞口，反應(yīng)腔室的底部開設(shè)有進(jìn)氣通道及出氣通道，進(jìn)氣通道和出氣通道以反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線相對(duì)設(shè)置，封蓋可操作地將反應(yīng)腔室頂部密封。本實(shí)用新型保證沉積膜的成型質(zhì)量和一致性，成膜效率高，周期短，提高前驅(qū)體源的利用率，適合批量性生產(chǎn)，具有很好的實(shí)用價(jià)值。 |
