一種ALD加工設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120163328.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214400712U 公開（公告）日 2021-10-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN214400712U 申請(qǐng)公布日 2021-10-15
分類號(hào) C23C16/455（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 萬軍;王輝;廖海濤;王斌 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫市邑晶半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 安磊
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)觀山路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種ALD加工設(shè)備。加工設(shè)備的反應(yīng)器包括真空腔室以及內(nèi)置于真空腔室內(nèi)的反應(yīng)腔室，反應(yīng)腔室的底部開設(shè)有相對(duì)設(shè)置的進(jìn)氣通道及出氣通道，反應(yīng)腔室的側(cè)壁上設(shè)置有第一料口，真空腔室的側(cè)壁上設(shè)置有第二料口，送料腔室設(shè)置在反應(yīng)器的外側(cè)，送料腔室的側(cè)面上設(shè)置有第三料口和第四料口，第三料口和第二料口之間設(shè)置有可開啟的第三密封門，送料腔室上設(shè)置有可將第四料口開閉的第四密封門，輸送裝置設(shè)置在送料腔室內(nèi)，輸送裝置包括輸送機(jī)構(gòu)、第一密封門以及第二密封門，第一密封門可密封第一料口，第二密封門可密封第二料口，第一密封門背向第二密封門的側(cè)面上設(shè)置有用于放置基體的支撐件。本實(shí)用新型保證沉積膜的成型質(zhì)量和一致性。