一種ALD加工設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120163712.0 申請日 -
公開（公告）號 CN214400713U 公開（公告）日 2021-10-15
申請公布號 CN214400713U 申請公布日 2021-10-15
分類號 C23C16/455（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 萬軍;王輝;廖海濤;王斌 申請（專利權(quán)）人 無錫市邑晶半導體科技有限公司
代理機構(gòu) 北京眾達德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 安磊
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)觀山路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種ALD加工設備。其中的加工設備的反應器包括真空腔室以及反應腔室，反應腔室內(nèi)置于真空腔室內(nèi)，反應腔室頂部敞口，反應腔室的底部開設有進氣通道及出氣通道，真空腔室的側(cè)面上設置有第一料口，升降裝置的輸出端設置可將反應腔室頂部密封的封蓋，抓取裝置設置在封蓋上，抓取裝置用于抓取輸送至真空腔室內(nèi)的基體，送料腔室設置在反應器的外側(cè)，送料腔室設置有第二料口以及第三料口，第二料口和第一料口連通設置，第二料口和第一料口之間設置有可開啟的第一密封門，送料腔室上設置有可將第三料口開閉的第二密封門，送料腔室內(nèi)設置有用于將基體輸送至真空腔室內(nèi)的輸送裝置。本實用新型可保證沉積膜的成型質(zhì)量和一致性。