一種雙面沉積磁控真空卷繞鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020871238.2 申請日 -
公開（公告）號 CN212199409U 公開（公告）日 2020-12-22
申請公布號 CN212199409U 申請公布日 2020-12-22
分類號 C23C14/56(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳清勝 申請（專利權(quán)）人 四川海格銳特科技有限公司
代理機構(gòu) 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 賴林東
地址 610100四川省成都市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)世紀大道515號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及磁控鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種雙面沉積磁控真空卷繞鍍膜設(shè)備，包括呈真空狀態(tài)的真空室，真空室內(nèi)設(shè)有用于放卷帶材的放卷輥、用于收卷帶材的收卷輥和兩個間隔分布的主輥，收卷輥和放卷輥之間的帶材經(jīng)換向輥換向后反向纏繞在兩主輥上；真空室設(shè)有用于對帶材進行離子清洗的清洗離子源和多個用于對帶材磁控濺射鍍膜的磁控靶，磁控靶和清洗離子源圍繞主輥分布設(shè)置，且清洗離子源位于主輥的帶材進膜端。本實用新型解決了現(xiàn)有磁控真空卷繞鍍膜機僅可實現(xiàn)單面鍍膜處理，雙面鍍膜時需要進行兩次裝夾操作，導(dǎo)致現(xiàn)有磁控真空卷繞鍍膜機鍍膜周期長、效率低的問題。??