一種含鍍層貴金屬成分的X射線熒光光譜分析方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910867000.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110530912B | 公開(公告)日 | 2022-01-04 |
申請公布號 | CN110530912B | 申請公布日 | 2022-01-04 |
分類號 | G01N23/223(2006.01)I;G16C20/20(2019.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 劉建紅;胡曉春;林哲瓊 | 申請(專利權(quán))人 | 國家珠寶檢測中心(廣東)有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 廣州駿思知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 吳靜芝 |
地址 | 200131上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗區(qū)富特西一路381號湯臣園區(qū)A1樓第6層B部位 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種含鍍層貴金屬成分的X射線熒光光譜分析方法,其分析的待測物由基體和包覆于基體外的鍍層組成,所述基體的主要成分為貴金屬;包括以下步驟:S1、利用X射線熒光光譜實測待測物基體組成元素的熒光測定強度I3,根據(jù)測得的元素信息設定基體組成元素的初始含量Wn;S2、根據(jù)基體組成元素的初始含量Wn,基于有鍍層測試條件計算基體組成元素的熒光理論強度I4,所述有鍍層測試條件為引入鍍層密度、鍍層厚度和鍍層質(zhì)量來修正鍍層組成元素對基體組成元素的吸收影響;S3、根據(jù)基體組成元素的熒光理論強度I4,采用基本參數(shù)法計算出基體組成元素的實際含量。 |
