一種外延設備的氣體供應方法及裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110231567.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113026098A | 公開(公告)日 | 2021-06-25 |
申請公布號 | CN113026098A | 申請公布日 | 2021-06-25 |
分類號 | C30B25/14 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 廖秋林;秦月明;趙肅 | 申請(專利權)人 | 桂林雷光科技有限公司 |
代理機構 | 桂林文必達專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 張學平 |
地址 | 541004 廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)高新區(qū)信息產業(yè)園D-08地塊1#生產車間 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種外延設備的氣體供應方法及裝置,支撐組件的殼體、底座和控制盒連接,第一加熱組件的多個第一安裝板設置在殼體的第一安裝槽內,第一支撐板和多個第一安裝板連接,多個第一加熱電阻分別設置在多個第一安裝板內,第二加熱組件的多個第二安裝板設置在殼體的第二安裝槽內,第二支撐板和多個第二安裝板連接,多個第二加熱電阻分別設置在多個第二安裝板內。交叉設置的第一安裝板和第二安裝板可以形成氣體流通的彎曲回路,極大地增加了加熱器件和氣體的接觸面積,從而可以更加高效地進行加熱,通過輸出組件可以將氣體排出,從而可以方便地對反應氣進行加熱,提高加熱效率。 |
