一種靜電噴射陣列系統(tǒng)的優(yōu)化控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110054077.3 申請日 -
公開（公告）號 CN102211066B 公開（公告）日 2013-06-19
申請公布號 CN102211066B 申請公布日 2013-06-19
分類號 B05B5/025(2006.01)I;B05B12/00(2006.01)I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 顧文華 申請（專利權(quán)）人 杭州建新浮法玻璃工業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 顧文華
地址 210016 江蘇省南京市白下區(qū)御道街29號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種靜電噴射陣列系統(tǒng)的優(yōu)化控制方法，屬于靜電噴射技術(shù)領(lǐng)域。包含有兩個或兩個以上靜電噴射單元，特征在于：每個靜電噴射單元包括一個獨(dú)立的或與其他靜電噴射單元共用的電荷產(chǎn)生或注入開關(guān)（6），一個獨(dú)立的或與其他靜電噴射單元共用的液體流量控制裝置或液體輸送開關(guān)（7）；該靜電噴射陣列系統(tǒng)還包括一個與電荷產(chǎn)生或注入開關(guān)（6）、液體流量控制裝置或液體輸送開關(guān)（7）相連的自動控制裝置（4），該自動控制裝置（4）通過以下方式之一或幾種方式的組合實(shí)現(xiàn)開關(guān)模式即每個噴頭的噴射的開關(guān)狀態(tài)、時間和周期：控制電荷的產(chǎn)生或注入通路，或液體的流量，或液體輸送通斷來實(shí)現(xiàn)噴頭。本發(fā)明具有實(shí)用性、噴射更均勻、能夠在工業(yè)化生產(chǎn)上大規(guī)模使用的特點(diǎn)。