超高精度3D打印系統(tǒng)（nanoArch P140）

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201830222261.7 申請日 -
公開（公告）號 CN304952116S 公開（公告）日 2018-12-18
申請公布號 CN304952116S 申請公布日 2018-12-18
分類號 - 分類 -
發(fā)明人 蔡俊林;周建林;郭再勛;賀曉寧;方絢萊 申請（專利權(quán)）人 重慶摩方科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深圳摩方材料科技有限公司
地址 518000 廣東省深圳市龍華區(qū)觀湖南大富社區(qū)虎地排118號錦繡大地8號樓5層B區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 1．本外觀設(shè)計產(chǎn)品的名稱：超高精度3D打印系統(tǒng)（nanoArch?P140）。2．本外觀設(shè)計產(chǎn)品的用途：本外觀設(shè)計產(chǎn)品用于超精密光固化3D打印及微納材料加工制備。3．本外觀設(shè)計產(chǎn)品的設(shè)計要點(diǎn)：產(chǎn)品形狀及外觀。4．最能表明本外觀設(shè)計設(shè)計要點(diǎn)的圖片或照片：主視圖。