一種適用于流體輻射改性的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720316733.5 申請日 -
公開（公告）號 CN206685144U 公開（公告）日 2017-11-28
申請公布號 CN206685144U 申請公布日 2017-11-28
分類號 G21K5/10(2006.01)I 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 陳志強;郭健華;溫文安 申請（專利權(quán)）人 佛山市來保利高能科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 代理人 左恒峰
地址 528200 廣東省佛山市南海區(qū)松崗松廈工業(yè)園新風(fēng)路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種適用于流體輻射改性的裝置，包括輻照室，所述輻照室外設(shè)有已輻照回收箱、未輻照灌裝箱，所述已輻照回收箱上設(shè)有閥門，所述未輻照灌裝箱與已輻照回收箱間設(shè)有輸送管道道，所述輸送管道道包括通入輻照室內(nèi)的輻照管、設(shè)于輻照室外的回流管，所述輸送管道上裝有流量控制閥，在使用過程將流體引入未輻照灌裝箱中并通過輻照管穿過輻照室后進入已輻照流體回收箱中，保證流體產(chǎn)品連續(xù)輻照生產(chǎn)、輻照劑量均勻、產(chǎn)品輻照無需分裝，搬運卸貨等操作，降低勞動強度、提高生產(chǎn)效率。