一種CVDMask的清洗設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023346155.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214683179U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN214683179U 申請(qǐng)公布日 2021-11-12
分類(lèi)號(hào) B08B3/08（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D53/32（2006.01）I;B01D53/04（2006.01）I;B01D53/22（2006.01）I 分類(lèi) 清潔;
發(fā)明人 錢(qián)超;余洋;植啟東;黃斌 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 南京深光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南鼎信專(zhuān)利商標(biāo)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 梁國(guó)海
地址 211102江蘇省南京市江寧區(qū)燕湖路189號(hào)（江寧開(kāi)發(fā)區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種CVD Mask的清洗設(shè)備，包括反應(yīng)箱體，反應(yīng)箱體的頂部連通有溶液添加釜，反應(yīng)箱體的頂部連通有等離子體生成器，反應(yīng)箱體內(nèi)腔的兩側(cè)固定安裝有三組支塊組，三組支塊組的頂部均活動(dòng)安裝有槽板，槽板中間部的內(nèi)部連通有第二電磁閥，第二電磁閥的底部固定安裝有連接軟管，反應(yīng)箱體內(nèi)腔的底部開(kāi)設(shè)有導(dǎo)流槽。通過(guò)截留濾箱，進(jìn)入的氣體經(jīng)過(guò)PM二點(diǎn)五濾層將反應(yīng)后生成的顆粒性物質(zhì)過(guò)濾，并經(jīng)過(guò)氣體半透層，將未反應(yīng)完全的氣態(tài)物質(zhì)進(jìn)行截留，進(jìn)而等離子過(guò)濾層，將反應(yīng)過(guò)程生成的等離子物質(zhì)進(jìn)行過(guò)濾，完成過(guò)濾流程，通過(guò)設(shè)置觀(guān)察窗，可以使得作業(yè)人員直觀(guān)地觀(guān)察到內(nèi)部的清洗與反應(yīng)的情況，進(jìn)一步增加了作業(yè)人員的安全。