一種高精度的X射線成像材料
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810203831.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN108485656A | 公開(公告)日 | 2018-09-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN108485656A | 申請(qǐng)公布日 | 2018-09-04 |
分類號(hào) | C09K11/61;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 郭素文;陳磊;鄭巖;姚靜;侯成義;劉潔;何文;張瑞君;宋長(zhǎng)波;戚佳斌;范宏偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海科炎光電技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 201619 上海市松江區(qū)洞涇工業(yè)區(qū)洞舟路8號(hào)8幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明一種高精度的X射線成像材料,它包括基質(zhì)材料BaFCl,含有Eu的主激活劑,含有Ce,Sm,Gd,Dy,Tb的共激活劑,含有K+和NH4+的鹵素化合物的助溶劑,其特征是以NH4F作為絡(luò)合劑,采用共沉淀的方法制備出前驅(qū)體BaFCl基質(zhì)材料,然后再將激活劑和助溶劑與基質(zhì)材料混合均勻后以硼氫化鈉作為還原劑在反應(yīng)釜中恒溫?cái)嚢?,攪拌均勻后將反?yīng)釜置于微波反應(yīng)器中,反應(yīng)完成后在紫外燈下除去表面被氧化的物質(zhì),然后經(jīng)過(guò)水洗處理后得到白色材料,粒度分布為50?100nm。 |
