一種線圈結(jié)構(gòu)能隨放電腔結(jié)構(gòu)進(jìn)行變化的離子源
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110002163.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114724912A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114724912A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01J37/32（2006.01）I;H01J37/08（2006.01）I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張瑤瑤;劉小波;胡冬冬;張懷東;劉海洋;李娜;郭頌;李曉磊;許開(kāi)東 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江蘇魯汶儀器股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京經(jīng)緯專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 221300江蘇省徐州市邳州經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)遼河西路8號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種線圈結(jié)構(gòu)能隨放電腔結(jié)構(gòu)進(jìn)行變化的離子源，包括從外至內(nèi)依次同軸設(shè)置的離子源腔、線圈支撐、線圈和放電腔本體；放電腔本體包括放電腔頂部、放電腔中部和放電腔底部；放電腔頂部為中空?qǐng)A環(huán)；放電腔底部為中心設(shè)有進(jìn)氣孔的圓盤(pán)；放電腔中部包括上端直筒和下端Dome型筒；線圈支撐的外圈安裝在離子源腔的內(nèi)壁面，線圈支撐的內(nèi)壁面形狀與放電腔本體的形狀相同；線圈安裝在線圈支撐內(nèi)，且包括筒形螺旋線圈和Dome型線圈；筒形螺旋線圈的位置與上端直筒的位置相對(duì)應(yīng)，Dome型線圈與下端Dome型筒的位置相對(duì)應(yīng)；每層線圈到放電腔本體外壁面的距離均相等。本發(fā)明將盤(pán)香形ICP源與筒狀I(lǐng)CP源相結(jié)合，能夠分段調(diào)節(jié)放電腔本體內(nèi)的等離子體密度，改善刻蝕均勻性。 |
