一種等離子體密度控制系統(tǒng)及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110002170.3 申請日 -
公開（公告）號 CN114724914A 公開（公告）日 2022-07-08
申請公布號 CN114724914A 申請公布日 2022-07-08
分類號 H01J37/32（2006.01）I;H01J37/08（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 胡冬冬;張瑤瑤;劉小波;張懷東;劉海洋;李娜;郭頌;李曉磊;許開東 申請（專利權(quán)）人 江蘇魯汶儀器股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 -
地址 221300江蘇省徐州市邳州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)遼河西路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種等離子體密度控制系統(tǒng)及方法，包括離子源、反應(yīng)腔室、擋片機(jī)構(gòu)和法拉第杯組；法拉第杯組設(shè)在與屏柵正對應(yīng)的反應(yīng)腔室壁面上，包括法拉第杯安裝架和至少N個法拉第杯；N個法拉第杯與屏柵上N組屏柵環(huán)狀孔的位置相對應(yīng)；擋片機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動裝置控制器和至少兩組擋片組件；每組擋片組件均包括若干個擋片和擋片驅(qū)動裝置；若干個擋片均沿放電腔尾端周向均勻布設(shè)；每個擋片均能旋轉(zhuǎn)伸入放電腔內(nèi)，遮擋進(jìn)入屏柵環(huán)狀孔的等離子體；擋片組件間的擋片交替布設(shè)，擋片組件間的擋片形狀不同。本發(fā)明能對離子源引出的離子束密度進(jìn)行測量，并對等離子體密度進(jìn)行實(shí)時控制，有效解決由于工藝條件改變而導(dǎo)致的刻蝕不均勻問題，并減小生產(chǎn)成本。