一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110002081.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114724911A 公開(kāi)（公告）日 2022-07-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN114724911A 申請(qǐng)公布日 2022-07-08
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01J37/08（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張瑤瑤;劉小波;胡冬冬;張懷東;劉海洋;李娜;郭頌;李曉磊;許開(kāi)東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇魯汶儀器股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 -
地址 221300江蘇省徐州市邳州經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)遼河西路8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置，包括離子源腔、放電腔、螺旋線圈、平面線圈和射頻電源；離子源腔和放電腔從外至內(nèi)依次同軸設(shè)置；放電腔的頭部設(shè)置有進(jìn)氣面板；螺旋線圈同軸套設(shè)在放電腔的筒身外周，兩者間具有徑向間隙R；平面線圈同軸安裝在進(jìn)氣面板的外側(cè)上游，兩者間具有軸向間隙L；螺旋線圈和平面線圈的一端均依次與功率分配器、射頻匹配器和射頻電源電連接，另一端均接地；功率分配器能對(duì)進(jìn)入螺旋線圈和平面線圈的射頻功率進(jìn)行分配，通過(guò)對(duì)分配率r進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)放電腔內(nèi)等離子密度分布的調(diào)節(jié)。本發(fā)明同時(shí)采用螺旋形和平面線圈，并對(duì)兩個(gè)線圈進(jìn)行功率分配，針對(duì)不同工況進(jìn)行調(diào)節(jié)，能有效改善刻蝕均勻性。