一種磁控濺射設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021399924.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212533105U | 公開（公告）日 | 2021-02-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212533105U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 張誠(chéng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 三河市衡岳真空設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京元合聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 李非非 |
| 地址 | 065200河北省廊坊市三河市燕郊高新區(qū)全景工業(yè)園三期33E | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種磁控濺射設(shè)備，該磁控濺射設(shè)備包括濺射室、以及在該濺射室內(nèi)相對(duì)設(shè)置的基片臺(tái)和濺射靶槍，該濺射靶槍內(nèi)設(shè)置有靶材，其中，該磁控濺射設(shè)備還包括：擋板以及勻氣環(huán)，該擋板以及勻氣環(huán)設(shè)置在該濺射室內(nèi)；擋板包括側(cè)遮擋部以及上遮擋部，其中，側(cè)遮擋部環(huán)繞濺射靶槍設(shè)置且其上端超出靶材的濺射面，上遮擋部從側(cè)遮擋部的上端向內(nèi)延伸至靶材邊緣處；勻氣環(huán)與外部工藝氣體提供裝置相連通且其上開設(shè)有多個(gè)出氣孔，勻氣環(huán)設(shè)置在擋板和濺射靶槍之間并對(duì)靶材形成環(huán)繞，勻氣環(huán)的設(shè)置高度位于靶材濺射面和上遮擋部之間。使用本實(shí)用新型所提供的磁控濺射設(shè)備可以確保穩(wěn)定的濺射速率。?? |
