一種活性納米級單晶二氧化硅
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310260665.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103804958A | 公開(公告)日 | 2014-05-21 |
申請公布號 | CN103804958A | 申請公布日 | 2014-05-21 |
分類號 | C09C1/28(2006.01)I;C09C3/04(2006.01)I;C09C3/06(2006.01)I;C09C3/08(2006.01)I;C09C3/10(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K9/02(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 許榮 | 申請(專利權(quán))人 | 上海那博新材料科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海申匯專利代理有限公司 | 代理人 | 金碎平 |
地址 | 201822 上海市嘉定區(qū)尚學(xué)路225、229號3幢5027室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種活性納米級單晶二氧化硅,其特征在于,單晶二氧化硅的加工過程為:1)粗曠篩選,水性環(huán)境,水洗、酸洗、中和處理PH值控制在4~10,去處礦石表面雜質(zhì)單晶粗粉碎,2)干式粉碎,線速度6m/s~25m/s,空氣壓力2~18公斤;3)單晶分級工藝,干式分級單晶精研磨工藝;4)濕法粉碎,中性水性環(huán)境,不破壞單晶形貌的條件下進(jìn)行分散處理納米級研磨,對顆粒進(jìn)行最終細(xì)度加工,使其達(dá)到納米級10~800納米,使其比表面積最大化,以達(dá)到易分散效果納米級顆粒成型加工,最終顆粒外形處理拋光,使其表面活性更大,更易于橡膠結(jié)合成型;5)納米表面加工,納米活性處理,液體加工成粉體。 |
