再生液的制備裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021400083.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213172590U 公開（公告）日 2021-05-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN213172590U 申請(qǐng)公布日 2021-05-11
分類號(hào) C23F1/46;C25C1/12;C25C7/00;C25C7/06 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李再強(qiáng);周昀杰;周智;韋天貴;張偉奇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市祺鑫環(huán)保科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 張婷
地址 518101 廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道塘尾社區(qū)南玻大道富華工業(yè)區(qū)第10棟廠房201
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種再生液的制備裝置，包括：冷卻罐，所述冷卻罐具有間隔設(shè)置的加藥口和出藥口，所述加藥口用于向所述冷卻罐內(nèi)加入蝕刻廢液；電解池，所述電解池具有間隔設(shè)置的入液口和出液口，所述入液口連通于所述出藥口，用于將所述冷卻罐內(nèi)的液體導(dǎo)入所述電解池內(nèi)而進(jìn)行電解反應(yīng)，并得到再生液，所述出液口用于排出得到的再生液。即，本實(shí)用新型的技術(shù)方案能夠保證電解池對(duì)蝕刻廢液的電解效率。