等離子體增強(qiáng)電化學(xué)表面陶瓷化方法和產(chǎn)品
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN95114880.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN1115793A | 公開(kāi)(公告)日 | 1996-01-31 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN1115793A | 申請(qǐng)公布日 | 1996-01-31 |
分類號(hào) | C23C14/48;H05H1/00 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 孔慶山;左洪波;米東輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 哈爾濱三利亞股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京科龍環(huán)宇專利事務(wù)所 | 代理人 | 哈爾濱環(huán)亞微弧技術(shù)有限公司;哈爾濱三利亞股份有限公司 |
地址 | 150036黑龍江省哈爾濱市高技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)14號(hào)樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬基體表面陶瓷化的方法及其產(chǎn)品。本方法利用等離子體弧光放電使電解質(zhì)物料在基體表面進(jìn)行燒結(jié),從而形成具有陶瓷結(jié)構(gòu)的膜層。本發(fā)明的產(chǎn)品膜層均勻性好,與基體結(jié)合致密,抗沖擊性及耐蝕性俱佳,而且花色多,裝飾性好,可適用于任何尺寸、形狀、結(jié)構(gòu)的基體工件的表面處理。 |
