平板探測(cè)器殘影校正方法及其校正裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201711298196.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN108171765A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108171765A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-18 |
| 分類(lèi)號(hào) | G06T11/00;G06T5/00 | 分類(lèi) | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 蘇曉芳 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海奕瑞光電子科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專(zhuān)利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 王華英 |
| 地址 | 201201 上海市浦東新區(qū)瑞慶路590號(hào)9幢2層202室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種平板探測(cè)器殘影校正方法，通過(guò)測(cè)試數(shù)據(jù)提取出單幀圖像殘影衰減系數(shù)，利用該系數(shù)實(shí)時(shí)計(jì)算出前N張圖像殘留在當(dāng)前幀圖像里的殘影值，并對(duì)當(dāng)前幀圖像做實(shí)時(shí)校正。該方法簡(jiǎn)潔、不增加硬件成本，不損失有效圖像信息；既能夠大幅降低殘影值，又不會(huì)造成校正過(guò)量，有效提高成像質(zhì)量；該殘影校正系數(shù)能夠在任何曝光劑量，任何曝光時(shí)長(zhǎng)下使用，該系數(shù)只與材料本身性質(zhì)有關(guān)，對(duì)于同一批次同一材料的X射線平板探測(cè)器，該系數(shù)均能適用；在后續(xù)產(chǎn)品升級(jí)或者維護(hù)中，并不需要技術(shù)人員的現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)，只需發(fā)布優(yōu)化升級(jí)的軟件包即可，從而降低人力成本，提高工作效率。 |
